다양한 산화물(FTO, ITO 또는 플렉서블한 TCO 기판)에 자기조립단분자막(SAM)을 형성할 수 있는 페로브스카이트에 대한 상호 작용 그룹인 bromine과 앵커링(anchoring) 그룹인 포스폰산(phosphonic acid)을 포함하는 카바졸 기반(carbazole-based) 분자
SAM 분자, F, Cl, Br 및 I에 할로겐 원자를 도입하면 OPV 및 PSC 장치 모두에서 정공 이동성을 더욱 향상시키고 저항을 감소시키며 계면 전하 재결합을 완화시키는 것으로 확인
역 페로브스카이트, 다중접합 Si/페로브스카이트 및 페로브스카이트/페로브스카이트 직렬 장치 및 OPV에서 정공 추출에 독점적인 효과를 나타낼 것으로 예상